功函数和肖特基势垒计算求助

pendft

使用material studio软件的castep模块计算了电解质和电极的表面功函数，想要对电极/电解质界面的空间电荷层进行表征；

看到一篇关于锂金属电极和电解质界面的DFT计算文献中提到，利用功函数大小，确定了界面处电子的迁移方向是：从电极（功函数小）向电解质（功函数大）移动；

后面又计算了界面处的肖特基势垒（锂电极是金属，电解质有带隙是半导体），疑问的是：文中提到了界面处存在n型肖特基势垒和p型肖特基势垒，

希望求助下各位大神（@sobereva ），下面的2个问题：

1.电极/电解质界面会同时存在n型和p型肖特基势垒吗？
2.图1公式（8）中的Ef是指LSPS/Li界面的费米能级，这个该如何计算呢：是把除界面部分外的所有原子的删除，再对剩余部分计算能带结构，得到的Ef吗?
  但是MS软件中，使用castep对能带结构进行分析后，通常将Ef直接设置为0eV了，该如何知道原本的费米能级在什么位置呢？