背景是要算溶剂在表面的反应能或吸附能，感觉有必要把基底磁矩算对
文献中有一句话描述镍酸锂的（10-14）表面磁矩，如图，【LixNiO2 assumes the low-spin configuration both in the bulk and at the surface】，所以假如有36个镍（Ni3+：1个单电子），（1）请问都是低自旋构型意味着slab整体的磁矩应为36吗？
接下来就是计算遇到的问题：
a，R-3m点群，36个镍，不优化晶胞切面后，优化离子，固定4层中的下两层，得到的磁矩是21（参数是结构优化时设置自旋磁矩Li=0.6，Ni=1.4，O=0.6，偶极矫正，DFT+U，sigma=0.2，EDIFF=E-5, EDIFFG= -0.02）
b，60个镍，优化晶胞切面后，再优化离子，不保持对称性，固定4层中的下两层，其他相同条件，磁矩是9
c，36个镍，优化晶胞切面后，再优化离子，4层不固定，不保持对称性，磁矩是36（参数是结构优化时设置自旋磁矩Li=0.6，Ni=1.4，O=0.6，偶极矫正，DFT+U，sigma=0.2，EDIFF=E-5, EDIFFG= -0.01）
（2）所以请问应该怎么结构优化呢，c是正确的吗还是偶然，以后吸附也按照c的方法来吗