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标题: 锂离子和溶剂分子在锂金属表面体系，cp2k和vasp跑aimd完全不同的结果 [打印本页]

作者
Author: maoxinxina 时间: 2025-4-3 16:08
标题: 锂离子和溶剂分子在锂金属表面体系，cp2k和vasp跑aimd完全不同的结果
这里对一个锂离子和溶剂分子在锂金属表面跑了一段动力学，对于cp2k来说，跑了300fs锂离子就掉下去了，而对于vasp来说，锂离子还有往上走的趋势。

K点设置是Gamma点。

这里想问的问题是为什么同样的构型，会有完全不一样的动力学过程，是因为参数设置的原因么。

作者
Author: sobereva 时间: 2025-4-3 22:49
明明是LiF表面，根本不是Li金属表面

当前体系净电荷为0，并没体现出是锂离子结合溶剂分子

作者
Author: maoxinxina 时间: 2025-4-4 14:51

sobereva 发表于 2025-4-3 22:49
明明是LiF表面，根本不是Li金属表面

当前体系净电荷为0，并没体现出是锂离子结合溶剂分子

嗯，我是在LiF的表面上挖了一个Li空穴，这里想设置的是不带电的空穴，需要给体系设置电荷吗。

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